鋁陽(yáng)極氧化廠家帶您了解：

鋁是一種相對(duì)活躍的金屬。標(biāo)準(zhǔn)電位-1.66V。一層厚度約為0.01~0.1微米的氧化膜可以在空氣中自然形成。這種氧化膜是非晶態(tài)的，薄而多孔，耐腐蝕性差。然而，如果鋁及其合金被放置在適當(dāng)?shù)碾娊庖褐校凿X產(chǎn)品為陽(yáng)極，它的表面通過(guò)外部電流產(chǎn)生氧化膜，這種方法被稱(chēng)為陽(yáng)極氧化。

通過(guò)選擇不同類(lèi)型、不同濃度的電解質(zhì)，以及控制氧化的過(guò)程條件，可以獲得具有不同性、厚度約幾十到幾百微米的陽(yáng)極氧化膜，其耐腐蝕性、耐磨性和裝飾性都得到了顯著的改善和改善。用于鋁和鋁合金陽(yáng)極氧化的電解質(zhì)通常是一種具有中等溶解能力的酸性溶液。鉛或鋁作為陰極，只起導(dǎo)電作用。當(dāng)鋁及其合金被陽(yáng)極氧化時(shí)，以下反應(yīng)發(fā)生在陽(yáng)極：

2Al->6e+2Al3+。

以下反應(yīng)發(fā)生在陰極：

6+6e-6H2+6OH-

同時(shí)，酸對(duì)鋁和產(chǎn)生的氧化膜進(jìn)行化學(xué)溶解，其反應(yīng)如下：

2Al+6H+>2Al3+3+3H2。

Al2O3+6H+>2Al3+3+3H2O。

氧化膜的生長(zhǎng)過(guò)程是氧化膜不斷生成和溶解的過(guò)程。

一部分a（曲線ab部分）：形成無(wú)孔層。在電源開(kāi)始的幾秒鐘到幾十秒鐘內(nèi)，鋁的表面立即產(chǎn)生了一層致密的、高絕緣性能的氧化膜，厚度約為0.01~0.1微米。它是一個(gè)連續(xù)的、無(wú)孔的薄膜層，被稱(chēng)為無(wú)孔層或隔層。這種薄膜的出現(xiàn)阻礙了電流的通過(guò)和薄膜層的持續(xù)增厚。無(wú)孔層的厚度與電壓的形成成正比，與電解液中氧化膜的溶解速度成反比。因此，曲線ab部分的電壓從零急劇增加到最值。

二段B（曲線BC部分）：形成多孔層。隨著氧化膜的形成，電解液對(duì)膜的溶解開(kāi)始。由于產(chǎn)生的氧化膜不均勻，電解液可以通過(guò)這些孔繼續(xù)到達(dá)鋁的新表面，電化學(xué)反應(yīng)可以繼續(xù)，電阻降低，電壓降低（降低范圍為10~15%，最值為10~15%）。

第三部分c(曲線cd部分):多孔層增厚。陽(yáng)極氧化約20秒后，電壓進(jìn)入一個(gè)相對(duì)平穩(wěn)緩慢的上升階段。這表明，雖然無(wú)孔層不斷溶解形成多孔層，但新的無(wú)孔層正在生長(zhǎng)，也就是說(shuō)，無(wú)孔層在氧化膜中的生成速度和溶解速度基本達(dá)到平衡，因此無(wú)孔層的厚度不再增加，電壓變化也很小。然而，在這個(gè)時(shí)候，氧化膜的形成和溶解在孔的底部并沒(méi)有停止，它們?nèi)栽谶M(jìn)行中，因此孔的底部逐漸向金屬基體內(nèi)部移動(dòng)。隨著氧化時(shí)間的延長(zhǎng)，孔加深形成孔隙，孔隙層逐漸加厚。當(dāng)膜的生成速度和溶解速度達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡時(shí)，即使氧化膜的厚度再次延長(zhǎng)~20，也不會(huì)再次增加。此時(shí)，陽(yáng)極氧化過(guò)程應(yīng)化過(guò)程應(yīng)該停止。陽(yáng)極氧化特性曲線和氧化膜的生長(zhǎng)過(guò)程如下圖所示。通過(guò)鋁及其交流電解液對(duì)于鋁的陽(yáng)極氧化物進(jìn)行直流和氧化處理，可以獲得5個(gè)~20個(gè)微米的厚度，這樣可以吸收更好的透明度，吸收更好的透明度。

硫酸陽(yáng)極氧化在中國(guó)得到了廣泛的應(yīng)用，因?yàn)樗に嚭?jiǎn)單，溶液穩(wěn)定，操作方便，允許雜質(zhì)含量廣，耗電少，成本低。